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通过GetGlyphOutline()检索二次贝塞尔曲线控制点时,在一般情况下,我想知道用于确定GLYPHMETRIC结构中返回的像素黑盒的正确捕捉/舍入计算。
黑匣子是否舍入为偶数个像素或更多,以防止贝塞尔曲线控制点最终落在黑匣子的精确边缘上? -即控制点距离黑匣子水平/垂直边缘> = 0.5像素吗?