在OpenGL 1.x中，您可以简单地将纹理附加到顶点的四边形以显示图像，使用线性放大镜参数，您可以将纹理拉伸或最小化为像素的大小，而不会“看到”它“像素化”。
在OpenGL es 2.0中，还有另一种渲染方法：使用顶点和片段着色器。 所以你只需要在屏幕上渲染一个纹理（图像）就可以为它编写自己的片段着色器 - 例如：
uniform sampler2D texture;
varying vec2 point; // coming from the vertex
void main () {
gl_fragColor(texture2D(texture, point));
}
这里的问题是发生的放大镜类型是最近的一种。它取变量“point”指向的最近像素的值。
我需要线性放大镜。
我的问题是：我如何在代码方面实现这样的事情？ 或者我从一开始就做错了什么？
根本没有片段着色器的预设用于此类事物。
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片段着色器中没有预设，因为它使用与固定功能管道相同的状态。 sampler2D制服是可编程管道中纹理单元的接口，当您在ES 2.0中对绑定到纹理单元的纹理进行采样时，包裹状态，滤镜模式等都取自纹理对象目前已受约束。您可以像在ES 1.0中一样设置这些状态。你是不正确的，你不能在片段或顶点着色器中更改它们，但你不需要，只需将纹理对象与适当的状态绑定。
Desktop GL（3.3 / 4.0 +）定义了一个称为采样器对象的东西，它将包装模式和滤镜与实际纹理对象分离。老实说，这应该是它应该一直工作的方式，让纹理对象定义数据存储和采样器状态都是浪费。不幸的是，这在OpenGL ES 2.0中并不存在，所以请记住，你提到的过滤器状态与纹理对象有关，而不是你可以在着色器中以可编程方式设置的。