Question

我想知道是否有办法优化这个顶点着色器如果顶点着色器位于阴影中，则该顶点着色器（在光方向上）将顶点投影到远平面此着色器的目的是创建一个阴影体对象，用于包围对象本身的阴影。

void main(void) {
  vec3 lightDir = (gl_ModelViewMatrix * gl_Vertex 
                   - gl_LightSource[0].position).xyz;

  // if the vertex is lit
  if ( dot(lightDir, gl_NormalMatrix * gl_Normal) < 0.01 ) {

    // don't move it
    gl_Position = ftransform();
  } else {

    // move it far, is the light direction
    vec4 fin = gl_ProjectionMatrix * (
                 gl_ModelViewMatrix * gl_Vertex 
                 + vec4(normalize(lightDir) * 100000.0, 0.0)
               );
    if ( fin.z > fin.w ) // if fin is behind the far plane
      fin.z = fin.w; // move to the far plane (needed for z-fail algo.)
    gl_Position = fin;
  }
}

Answer 1

如果您不想触摸您的主要算法（正如Michael Daum在评论中所建议的那样），您可以替换代码的某些部分：

uniform mat4 infiniteProjectionMatrix;

if(...) {
   ...
} else {
   gl_Position = infiniteProjectionMatrix * vec4(lightDir, 0.0);
}

其中infiniteProjectionMatrix是一个自定义投影矩阵，其中远平面已设置为无穷大（请参阅幻灯片7上的http://www.terathon.com/gdc07_lengyel.pdf），如下所示：

由于你投射到无限远，你不需要＆＃34; 100000.0＆＃34;缩放因子和＆＃34; gl_ModelViewMatrix * gl_Vertex＆＃34; offset可以忽略（与lightDir向量的无限长度相比）。

阴影卷着色器优化（GLSL）

1 个答案: