我对阴影贴图中的偏差矩阵感到困惑。根据这个问题：bias matrix in shadow mapping，偏差矩阵用于缩小并转换为[0..1] x和[0..1] y。所以我认为如果我们不使用偏置矩阵，纹理只会被1/4场景大小填充？真的吗？或者这里有一些魔力吗？
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不完全，但结果是一样的。作为你联系的问题的答案说。在w划分后，您的坐标位于NDC空间中，在[-1,1]（x，y和z）范围内。现在，当您从纹理中采样时，您应该给出的坐标位于“纹理空间”中，而OpenGL将该空间定义为[0,1]范围（至少对于2D纹理）。 x = 0 y = 0是纹理的左下角，x = 1 y = 1是纹理的右上角。
这意味着，当您要从渲染的深度纹理进行采样时，您必须将计算出的纹理坐标从[-1,1]转换为[0,1]。如果你不这样做，纹理会很好，但只有四分之一的坐标会落在你真正想要采样的范围内。
你不希望将要渲染的对象偏向深度纹理，因为OpenGL会将坐标从NDC转换为窗口坐标（在这种情况下，窗口是你的纹理，使用{ {1}}为你做正确的转变。
要将偏差应用于纹理坐标，您可以使用纹理偏差矩阵，并将其乘以投影矩阵，因此着色器不必担心它。您链接的帖子已经给出了该矩阵：
glViewport如果你的矩阵是列主要的，这个矩阵应该将[-1,1]变换为[0,1]，它首先乘以0.5，然后加0.5。如果你的矩阵是行主要的，你应该简单地转置矩阵，你就可以了。
希望这会有所帮助。