如何在SCNTechnique中使用模板？

Question

基本上，我想在立方体周围渲染轮廓。为此，我想我可以使用具有以下渲染过程的SCNTechnique：

1. 正常渲染立方体，并将其占用的像素写入模板缓冲区。
2. 如果第一遍中没有与模板相交，则渲染稍大的立方体。

问题是，SCNTechnique中的模具文档非常稀疏，我无法确切知道如何使用它。

我已经成功绘制轮廓，首先绘制较大的'轮廓立方体'，然后禁用深度测试，然后绘制正常的立方体，这样做效果相当不错，但是由于其他并发症，我想使用模板这种方法。

为了让它使用模板缓冲区工作，我的第一个传递stencilStates看起来像（以及为什么我认为我需要属性）：

clear = YES  // To clear the buffer from last 
enable = YES // To write to the buffer
behavior:
    writeMask = 1     // Use bit 1
    function = always // Always write to stencil regardless?

第二遍stencilStates看起来像是：

clear = NO   // Keep the buffer from last step
enable = NO  // Don't write to the buffer (only read?)
behavior:
    readMask = 1      // Use bit 1
    fail     = keep   // Not sure if these...
    pass     = zero   // ...should be the other way round

模板缓冲行为有很多a few other properties，但我不确定我需要哪些以及如何使用它们。我也不确定是否需要将模板缓冲区列为每次传递的输入或输出？

编辑1：这是完全我想要实现的内容，通过首先绘制蓝色，更大的轮廓立方体而不写入深度缓冲区来呈现：



如果不是因为在这个庄园中画一些副作用，我会离开这样的实现，但我认为模板方法会避免这些副作用，我认为知道如何有用无论如何要使用它们！

编辑2：我一直在玩，试图直接使用OpenGL（在C中）产生类似的效果。我并没有假装完全理解模板是如何工作的（我基本上借用了code from a tutorial），但这些命令产生了我想要实现的目标。

在绘制主立方体之前，写入模板缓冲区：

glStencilFunc(GL_ALWAYS, 1, 0xFF); // Set any stencil to 1
glStencilOp(GL_KEEP, GL_KEEP, GL_REPLACE);
glStencilMask(0xFF); // Write to stencil buffer
glClear(GL_STENCIL_BUFFER_BIT); // Clear stencil buffer (0 by default)

绘制主立方体之后，在绘制较大的轮廓立方体之前，测试当前的模板缓冲区：

glStencilFunc(GL_EQUAL, 0, 0xFF); // Pass test if stencil value is 0
glStencilMask(0x00); // Don't write anything to stencil buffer

因此，问题是如何使用SCNTechnique来实现上述目标。

Answer 1

您可以使用SCNTechnique绘制轮廓。我们的想法是将对象蒙版绘制到缓冲区，模糊蒙版的一个通道，然后将其与原始渲染帧组合。该组合着色器检查模糊通道和非模糊通道，并仅将轮廓渲染到对象外部。

有一个例子可以在这里围绕节点绘制光晕：https://github.com/laanlabs/SCNTechniqueGlow 你应该能够修改它以获得你想要的效果。