我有一个问题，希望你能帮助我。我一直在忙着和xna玩游戏，最近开始进入着色器（hlsl）。这个着色器我喜欢，使用，并希望改进。
着色器通过绘制模型的背面（黑色）并沿其法线平移顶点来创建轮廓。现在，对于光滑阴影模型，这很好。然而，我正在使用平面阴影模型（我是通过手机发布的，但是如果有人对这意味着什么感到困惑，我可以稍后上传一张图片）。这意味着顶点沿着其相应面的法线平移，导致面之间的可见间隙。
现在，问题是：有没有办法计算（在着色器或xna中），我应该如何翻译每个顶点，或者是唯一可行的选项，只是制作3D模型的副本，但是顺利遮光？
提前致谢，希望你能教育我！
编辑：或者，我只能加载一个光滑阴影的模型，并尝试在着色器中对其进行平面着色。但是，这意味着我必须能够找到相应面的所有顶点的法线，添加它们的法线，并对结果进行标准化。有没有办法做到这一点？
EDIT2：到目前为止，我发现了一些似乎不起作用的选项：现在不推荐在hlsl中设置“shademode”。将fillmode设置为“线框”将是整洁的（同时剔除正面），如果我只能设置线条粗细。
我在这里正在研究一个新想法。我可以迭代顶点，在屏幕上找到它们的位置，并使用类似RoundLine库之类的东西在这些点之间绘制2d线。我打算尝试一下，看看它是否有效。
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好的，我一直在研究这个问题，发现了一些非常好的东西。
相反，做了很多复杂的数学来绘制正确深度的2d线，我只是做了以下几点： 设置一个光栅化器状态，用于剔除正面，绘制线框，并具有略微负深度偏差。 现在绘制所有黑色的模型（我修改了我的着色器） 设置剔除背面的光栅化器状态，绘制fillmode.solid并具有0深度偏差。 现在正常绘制模型。
由于我们无法改变线框线的粗细，因此我们留下了非常纤细的轮廓。就我的目的而言，这实际上并不太糟糕。
我希望这些信息对以后的人有用。